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    Product laser

    產品中心
    晶圓激光清洗/減薄設備
    產品簡介
    以精密的激光微處理技術替代晶圓制造中的濕刻及化學機械研磨工藝,從而實現晶圓表面各種薄膜的去除,并保證晶圓表面良好的微觀質量。
    產品特點

    薄膜去除深度靈活,最小支持深度0.33μm

    支持晶圓制造中各類無機/金屬薄膜去除,如:oxide/nitride/poly si/metal

    優異的平整度均勻性,表面幾乎零缺陷

    精密的激光控制系統,熱影響小

    零耗材、低污染,成本優勢明顯

    產能優異

    兼容8~12寸晶圓

    應用領域
    裸晶圓、控片、測試片、擋片
    技術指標
    設備型號 DR-S-WLC200 DR-S-WLC300 DR-S-WLT200 DR-S-WLT300
    適用晶圓尺寸 8 12 8 12
    激光能量密度 ≥30J/cm2 ≥80J/cm2
    激光輸出穩定性  5%RMS4hrs
    移除深度 2-10μm 2-10μm 30-100μm 30-100μm
    TTV ≤2μm ≤3μm ≤8μm ≤15μm
    區域平整度(20*20 ≤0.15μm ≤0.3μm ≤1μm ≤2μm
    設備產能 ≥25 ≥15 ≥40 ≥25
    應用案例
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